ISO 19383:2026

Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
Autor: ISO
Código ICS: 25.220.01
Vigente
$161.840

Alcance

This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification.

Especificaciones de productos
Fecha de Publicación 01/06/2026
Título Secundario Dépôt de couches atomiques — Caractéristiques chimiques et spécifications de processus associées des précurseurs pour le dépôt de couches atomiques
Páginas Técnicas 13
Idioma Inglés