ISO 23170:2022

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

Autor: ISO

Código ICS: 71.040.40

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Estado: Vigente

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This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Especificaciones de la Norma

Fecha de Publicación	15/06/2022
Título Secundario	Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Profilage d'épaisseur non destructif de films minces d'oxydes de métaux lourds à l'échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d'ions de moyenne énergie
Páginas Técnicas	29
Idioma	Inglés