ISO 23170:2022

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Autor: ISO
Código ICS: 71.040.40
Vigente
$118.000

Alcance

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Especificaciones de la Norma
Fecha de Publicación 15/06/2022
Título Secundario Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Profilage d'épaisseur non destructif de films minces d'oxydes de métaux lourds à l'échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d'ions de moyenne énergie
Páginas Técnicas 29
Idioma Inglés